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J-GLOBAL ID：200903057833896439

含窒素芳香族ヘテロ環カルボン酸化合物の製造方法

Inventor： 浅沼 直樹 ,  山川 一義
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 飯田 敏三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998150776
Publication number (International publication number)：1999322716
Application date： May. 15, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 多量の重金属化合物の使用や取り扱いが難しく危険を伴う酸化剤の使用を回避し、触媒量の重金属錯体と取り扱いが簡便な酸化剤を用いて含窒素芳香族ヘテロ環カルボン酸化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 ニッケル化合物の存在下、次亜ハロゲン酸塩を酸化剤として特定の含窒素芳香族ヘテロ環化合物を酸化して対応する含窒素芳香族ヘテロ環カルボン酸化合物を得る含窒素芳香族ヘテロ環カルボン酸化合物の製造方法。

Claim (excerpt)：

ニッケル化合物の存在下、次亜ハロゲン酸塩を酸化剤として一般式(I)で表される含窒素芳香族ヘテロ環化合物を酸化して一般式(II)で表される含窒素芳香族ヘテロ環カルボン酸化合物を得ることを特徴とする含窒素芳香族ヘテロ環カルボン酸化合物の製造方法。一般式(I)【化1】(式中、Qは窒素原子を少なくとも1個含む5員ないし6員の単環または縮合環の芳香族ヘテロ環を表し、Rは第1級アルキル基を表し、nは1から5の整数を表す。Xは置換基を表し、mは0から4の整数を表す。)一般式(II)【化2】(式中、Q、X、n及びmは一般式(I)と同義である。)

IPC (24)：

C07D213/79 ,  C07D215/04 ,  C07D215/18 ,  C07D215/48 ,  C07D217/02 ,  C07D231/14 ,  C07D237/08 ,  C07D237/24 ,  C07D239/26 ,  C07D239/28 ,  C07D241/12 ,  C07D241/24 ,  C07D261/10 ,  C07D263/34 ,  C07D263/58 ,  C07D277/24 ,  C07D277/56 ,  C07D277/64 ,  C07D277/68 ,  C07D471/04 114 ,  C07D473/00 ,  C07D487/04 142 ,  C07D487/04 146 ,  C07D521/00

FI (24)：

C07D213/79 ,  C07D215/04 ,  C07D215/18 ,  C07D215/48 ,  C07D217/02 ,  C07D231/14 ,  C07D237/08 ,  C07D237/24 ,  C07D239/26 ,  C07D239/28 ,  C07D241/12 ,  C07D241/24 ,  C07D261/10 ,  C07D263/34 ,  C07D263/58 ,  C07D277/24 ,  C07D277/56 ,  C07D277/64 ,  C07D277/68 ,  C07D471/04 114 N ,  C07D473/00 ,  C07D487/04 142 ,  C07D487/04 146 ,  C07D521/00