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J-GLOBAL ID：200903057841051740

真空吸着装置

Inventor： 菅原 文男 ,  仙波 伸二 ,  伊藤 積男
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 村上 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991180187
Publication number (International publication number)：1994039768
Application date： Jun. 24, 1991
Publication date： Feb. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被吸着物の接触により押し上げられる真空の供給・遮断を行う摺動可能なピンを備えた真空吸着装置を、省スペース、低コストにする。さらに、被吸着物の吸着時の有無、及び吸着移動後の取り残しの有無が検出できる真空吸着装置を得る。【構成】 被吸着物1を吸着する吸着パッド2と真空を供給する供給口5を有し、かつ内部に上記吸着パッド2と真空供給口5をつなぐ通路と、この通路に圧空を供給する圧空供給口16とをつなぐ通路7、9を備え、その通路内に真空の供給・遮断を行う摺動可能なピン8を備えた真空吸着装置において、被吸着物1の接触により押し上げられたピン8を圧空供給口16から圧空を供給して押し下げ得る構造とし、ピン8に検出部材21を取り付け、その位置変化を検出する検出器23を備えて被吸着物1の吸着時及び取り残しの有無を検知する。

Claim (excerpt)：

貫通孔を有する保持部、この保持部にそれぞれ設けられ、上記貫通孔に通ずる真空供給孔と圧空供給孔、上記保持部の上記貫通孔の一端に取り付けられた吸着部、上記貫通孔内に上下動可能に設けられ、下降位置において上記吸着部の吸着面よりも下方に突出するとともに、上記真空供給孔と吸着部の間の通路を遮断するピンを備え、このピンは被吸着物が接触すると、その下端が押し上げられて上記真空供給孔と吸着部の間の通路を開放し、且つ上記真空供給孔と吸着部をつなぐ通路と圧空供給孔とを常に遮断するものであり、さらに上記圧空供給孔から供給される圧空によって押し下げられるようになされていることを特徴とする真空吸着装置。

IPC (4)：

B25J 15/06 ,  B65H 5/14 ,  H01L 21/52 ,  H01L 21/68