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J-GLOBAL ID：200903057843142378

大粒径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法

Inventor： 渡部 淑胤 ,  鹿島 吉恭 ,  高木 宏行 ,  横山 卓史
Applicant, Patent owner： 日産化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995223098
Publication number (International publication number)：1997067114
Application date： Aug. 31, 1995
Publication date： Mar. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】均一な粒子径を有し、且つ球状で大粒径のコロイダルシリカが液状媒体に分散しているシリカゾルを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】本願発明のシリカゾルの製造方法は、(a)工程:20nm以上の粒子径を有する水性シリカゾルと、ケイ酸アルカリ水溶液及び/又はアルカリ水溶液を混合して、当該混合液中の全SiO2/M2O(但し、Mはアルカリ金属を示す)のモル比を10〜100に調整してヒール液とする工程、(b)工程:6〜10nmの粒子径、8〜20重量%のSiO2濃度及び2〜5のpHを有する水性シリカゾルを調整してフィード液とする工程、及び(c)工程:容器内にヒール液を入れ、ヒール液を90°C以上に保持しながら、ヒール液にフィード液を添加してヒール液中のシリカ粒子の粒子径を成長させるビルドアップ工程、からなる。

Claim (excerpt)：

下記(a)工程、(b)工程及び(c)工程;(a):20nm以上の粒子径を有する水性シリカゾルと、ケイ酸アルカリ水溶液及び/又はアルカリ水溶液を混合して、当該混合液中の全SiO2/M2O(但し、Mはアルカリ金属を示す)のモル比を10〜100に調整してヒール液とする工程、(b):6〜10nmの粒子径、8〜20重量%のSiO2濃度及び2〜5のpHを有する水性シリカゾルを調整してフィード液とする工程、及び(c):容器内にヒール液を入れ、ヒール液を90°C以上に保持しながら、ヒール液にフィード液を添加してヒール液中のシリカ粒子の粒子径を成長させるビルドアップ工程、からなるシリカゾルの製造方法。

IPC (2)：

C01B 33/14 ,  C01B 33/151

FI (2)：

C01B 33/14 ,  C01B 33/151

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• シリカゾルの製造及び濃縮法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-132531   Applicant：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
• 特公昭46-020137
  
• 特公昭30-002618