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J-GLOBAL ID：200903057847607189
フォトマスク検査装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992034107
Publication number (International publication number)：1993204134
Application date： Jan. 24, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：
【要約】【目的】 フォトマスクに形成された位相部材中の位相変化量の誤差が大きい部分を簡易且つ迅速に検出する。【構成】 フォトマスク8からの光を偏光状態に応じて第1の光束LAと第2の光束LBとに分離する偏向ビームスプリッター面11と、それら第1の光束と第2の光束とを合成する偏向ビームスプリッター面18と、この合成後の光束の強度分布を観察する光電変換素子20と、第1の光束LAを一方向に横ずれさせる第1の平行平面板13と、第2の光束LBをその一方向と逆の方向に横ずれさせる第2の平行平面板14とを有する。
Claim (excerpt)：
検査対象のフォトマスクを照明する照明光学系と、前記フォトマスクからの光を偏光状態に応じて第1の光束と第2の光束とに分離する光束分離手段と、該分離された第1の光束の光路長と前記分離された第2の光束の光路長とがほぼ等しくなる位置に配置され、前記第1の光束と前記第2の光束とを合成する光束合成手段と、該合成後の光束の強度分布を観察する観察手段と、前記第1の光束の光路中に配置され前記第1の光束を一方向に横ずれさせる第1の傾角可変な光学部材と、前記第2の光束の光路中に配置され前記第2の光束を前記一方向と逆の方向に横ずれさせる第2の傾角可変な光学部材とを有する事を特徴とするフォトマスク検査装置。
IPC (4)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 21/027
