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J-GLOBAL ID:200903057869030349
光触媒脱臭フィルター及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
石黒 健二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998124456
Publication number (International publication number):1999314022
Application date: May. 07, 1998
Publication date: Nov. 16, 1999
Summary:
【要約】【課題】 機械的強度が大きく、耐水性および耐熱性に優れるとともに、担体の表面の下地処理が不要で、大がかりな製造装置を必要としないため、簡単な設備で安価に製造できる光触媒脱臭フィルターを提供すること。【解決手段】 光触媒脱臭フィルター1は、アナターゼ型酸化チタンと、カオリナイトまたはベントナイトとからなる光触媒層3、または前記に活性炭を加えた光触媒層3を、多孔質セラミック焼結体21の表面に付着させてなる。アナターゼ型酸化チタン粉末、カオリナイトまたはベントナイトの粉末、有機バインダー及び水を所定の割合で混練した泥しょう、あるいは該泥しょうに活性炭粉末を加えた泥しょうに、多孔質セラミック焼結体2を浸漬するか又は前記泥しょうを多孔質セラミック焼結体2にスプレーし、所定の温度で熱処理する。
Claim (excerpt):
アナターゼ型酸化チタンと、カオリナイトまたはベントナイトとからなる光触媒層を、多孔質セラミック焼結体の表面に付着させてなる光触媒脱臭フィルター。
IPC (3):
B01D 53/86
, B01D 35/027
, B01J 35/02
FI (4):
B01D 53/36 J
, B01J 35/02 J
, B01D 35/02 J
, B01D 53/36 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特開平1-189322
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特開平1-189322
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有害物質除去剤およびその製造方法ならびにそれを用いた有害物質除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-131231
Applicant:石原産業株式会社
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有害物質除去剤およびそれを用いた有害物質除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-131232
Applicant:石原産業株式会社
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機能性素焼製品の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-231402
Applicant:株式会社アロバン
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特開平2-107339
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特開平1-189322
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特開平2-107339
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