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J-GLOBAL ID：200903057878521827

有害ガスの浄化方法

Inventor： 島田 孝 ,  奥村 敏雄 ,  畠山 俊哉
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993139269
Publication number (International publication number)：1994327932
Application date： May. 19, 1993
Publication date： Nov. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半導体製造工程などで使用され、排ガス中などに含まれてくるアルコキシド系のガスを安全、かつ、効率よく除去する。【構成】 アルコキシドを含有するガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物に水酸化カリウムなどのアルカリ化合物を添着させた浄化剤と接触させる。

Claim (excerpt)：

有害成分となるアルコキシド化合物を含有するガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にアルカリ金属化合物を添着せしめてなる浄化剤と接触させ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (2)：

B01D 53/34 120 ,  B01D 53/34 ZAB