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J-GLOBAL ID:200903057886849157

重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する膜形成用組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩見谷 周志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001131385
Publication number (International publication number):2002322245
Application date: Apr. 27, 2001
Publication date: Nov. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 短時間焼成が可能であり、耐熱性、密着性及びクラック耐性に優れ、低誘電性の膜を得ることができる膜形成用組成物、そのための重合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 特定のジハロゲン化物(例えば4,4’-ビス(2-ヨードフェノキシ)ベンゾフェノン)と特定のジエチニル化合物(例えば4,4’-ジエチニルジフェニルエーテル)とを触媒の存在下で反応させ、特定の構造を有する重合体を得る。この重合体を溶媒に溶解して膜形成用組成物を得る。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)【化1】[式中Zは下記一般式(2)及び下記一般式(3)【化2】【化3】(式中、R1及びR2は、独立に単結合、-O-、-CO-、-CH2-、-COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、フェニレン基、フルオレニレン基、又は式:【化4】で表される2価の基を表わし、R3、R4、R5及びR6は、独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜20のアルコキシル基又はアリール基を表わし、aは1〜3の整数を示し、b、c、d及びeは、独立に0〜4の整数を示す。)で表わされる2価の芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の芳香族基であり、Yは、下記一般式(4)及び一般式(5)【化5】【化6】(式中、R7及びR8は、独立に単結合、-O-、-CO-、-CH2-、-COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、フェニレン基、又はフルオレニレン基を表わし、R9、R10、R11及びR12は、独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜20のアルコキシル基又はアリール基を表わし、fは0〜3の整数を示し、g、h、i及びjは、独立に0〜4の整数を示す。)で表される2価の芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の芳香族基である。]で表される繰返し単位を有する重合体。
IPC (5):
C08G 61/00 ,  C08J 5/18 CEZ ,  C09D165/00 ,  C09D201/00 ,  C08L 65:00
FI (5):
C08G 61/00 ,  C08J 5/18 CEZ ,  C09D165/00 ,  C09D201/00 ,  C08L 65:00
F-Term (26):
4F071AA69 ,  4F071AH12 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC02 ,  4J032CA04 ,  4J032CB04 ,  4J032CC01 ,  4J032CD02 ,  4J032CD07 ,  4J032CE03 ,  4J032CG08 ,  4J038DN011 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038KA09 ,  4J038LA02 ,  4J038NA12 ,  4J038NA14 ,  4J038NA17 ,  4J038NA21 ,  4J038NA23 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  4J038PC02 ,  4J038PC08

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