薄膜特性評価装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿仁屋節雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995121649
Publication number (International publication number)：1996313422
Application date： May. 19, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【目的】薄膜の変位量を比較的簡単に高精度で測定して薄膜特性を高精度で評価できる装置を提供する。【構成】内部の気圧を変化できる真空チャンバ11内に前記薄膜試料2の一方の面側が接するように該薄膜試料2を保持する試料保持装置1と、試料保持装置1のチャンバ11内の気圧を制御する圧力制御装置13と、試料保持装置1のチャンバ11内の気圧を測定する真空計14と、薄膜試料2の中心部の変位を測定する光ヘテロダイン測定装置4と、これらの制御及び演算処理を行うパーソナルコンピュータ5とを有する。光ヘテロダイン測定装置4は、互いに周波数が僅かに異なる2つの可干渉なレーザ光を干渉させて参照ビート信号を作成する手段と、前記2つの可干渉なレーザ光のうちの一方のレーザ光を前記薄膜試料2の中心部に照射して得られる反射光と他方のレーザ光とを干渉させて測定ビート信号を作成する手段とを有し、これら参照ビート信号及び測定ビート信号から前記薄膜試料2の中心部の変位を求めるものである。

Claim (excerpt)：

外周縁部を固定した薄膜試料の一方の面側と他方の面側との気圧差を変化させた場合の前記薄膜の中心部の変位と前記気圧差との依存関係を求めることによって前記薄膜の特性を評価する薄膜特性評価装置であって、内部の気圧を変化できるチャンバ内に前記薄膜試料の一方の面側が接するように該薄膜試料を保持する試料保持装置と、前記試料保持装置のチャンバ内の気圧を制御する圧力制御装置と、前記試料保持装置のチャンバ内の気圧を測定する圧力測定装置と、前記薄膜試料の中心部の変位を測定する変位測定装置とを有し、前記変位測定装置は、互いに周波数が僅かに異なる2つの可干渉なレーザ光を干渉させて参照ビート信号を作成する手段と、前記2つの可干渉なレーザ光のうちの一方のレーザ光を前記薄膜試料の中心部に照射して得られる反射光と他方のレーザ光とを干渉させて測定ビート信号を作成する手段とを有し、これら参照ビート信号及び測定ビート信号から前記薄膜試料の中心部の変位を求めるものであることを特徴とする薄膜特性評価装置。

IPC (3)：

G01N 3/10 , G01B 11/02 , G01N 3/00

FI (3)：

G01N 3/10 , G01B 11/02 G , G01N 3/00 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平1-237430
特開昭62-147384
レーザ干渉測長装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-245764 Applicant：和泉電気株式会社

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