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J-GLOBAL ID：200903057894257927

GaAsウエハ用研磨液及びその製造方法

Inventor： 中山 茂吉
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994034511
Publication number (International publication number)：1995241763
Application date： Mar. 04, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高い研磨速度を有する研磨液を提供し、かつ、研磨液の管理を容易にする研磨液の製造方法を提供しようとするものである。【構成】 ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムと、トリポリリン酸ナトリウム及び炭酸ナトリウム、必要に応じて硫酸ナトリウムを別途蒸留水に溶解して溶液を調製し、研磨時に両者を混合することを特徴とするGaAsウエハ用研磨液、及び、その製造方法である。

Claim (excerpt)：

ジクロロイソシアヌル酸のナトリウム塩又はカリウム塩、トリポリリン酸のナトリウム塩又はカリウム塩、及び、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムを含有することを特徴とするGaAsウエハ用研磨液。

IPC (2)：

B24B 37/00 ,  C30B 33/00