Pat

J-GLOBAL ID：200903057917119373

パーティクルの検査方法

Inventor： 中野 正己 ,  内山 勇雄 ,  高松 広行 ,  鈴木 盛江
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社
Agent (1)： 石原 詔二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995203189
Publication number (International publication number)：1997049802
Application date： Aug. 09, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ウェーハ、例えば、半導体ウェーハ上のパーティクル(実異物)とウェーハの結晶欠陥または表面異常(キズ等)とを容易に判別することができ、ウェーハ上のパーティクルを正確に測定することを可能としたパーティクルの検査方法を提供する。【解決手段】 検査対象となるウェーハ上のパーティクルを測定して第1パーティクルマップを作成する工程と、該ウェーハからパーティクルを除去する処理を行なう工程と、該パーティクル除去処理を受けたウェーハ上のパーティクルを測定して第2パーティクルマップを作成する工程と、上記第1及び第2パーティクルマップを比較する工程とを有し、第1及び第2パーティクルマップの双方において不動の位置に存在するパーティクルを結晶欠陥または表面異常と判定し、第1パーティクルマップには存在するが第2パーティクルマップに存在しなくなったパーティクルを実異物と判定する。

Claim (excerpt)：

検査対象となるウェーハ上のパーティクルを測定して第1パーティクルマップを作成する工程と、該ウェーハからパーティクルを除去する処理を行なう工程と、該パーティクル除去処理を受けたウェーハ上のパーティクルを測定して第2パーティクルマップを作成する工程と、上記第1及び第2パーティクルマップを比較する工程とを有し、第1及び第2パーティクルマップの双方において不動の位置に存在するパーティクルを結晶欠陥または表面異常と判定し、第1パーティクルマップには存在するが第2パーティクルマップに存在しなくなったパーティクルを実異物と判定することを特徴とするパーティクルの検査方法。

IPC (3)：

G01N 21/88 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/66

FI (3)：

G01N 21/88 E ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 洗浄能力評価方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-095085   Applicant：三菱電機株式会社
• パーティクル数測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-295409   Applicant：信越半導体株式会社