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J-GLOBAL ID：200903057935621264

新規な9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法

Inventor： 伊藤 浅夫 ,  菊地 一徳 ,  伊藤 睦子
Applicant, Patent owner： 三協化学株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991322166
Publication number (International publication number)：1993155825
Application date： Dec. 05, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、電子写真感光体の電荷輸送層に用いられる有機光導電性材料として有用な新規9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体を提供することである。【構成】 次の一般式〔1〕で表わされる新規9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体。(式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、R1 、R2 、R3 およびR4 は同一でも異ってもよいが、但し、R1 とR2 およびR3 とR4 が同じ組み合わせのものを示す場合は除く。)【化1】

Claim (excerpt)：

次の一般式〔1〕で表わされる9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体。【化1】(式中、R1 ,R2 ,R3 およびR4 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、R1 ,R2 ,R3 およびR4 は同一でも異なってもよいが、但し、R1 とR2 およびR3 とR4 が同じ組み合わせのものを示す場合を除く。)

IPC (2)：

C07C211/57 ,  C07C209/60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 電子写真感光体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-316599   Applicant：三田工業株式会社