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J-GLOBAL ID：200903057957234884

レジスト組成物

Inventor： 川口 泰秀 ,  児玉 俊一
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 野口 恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000173190
Publication number (International publication number)：2001350265
Application date： Jun. 09, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液で現像可能で短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性、耐熱性等が優れた含フッ素光レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 CF2=CX1X2(ただし、X1は水素原子またはフッ素原子、X2は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数3以下のパーフルオロアルキル基または炭素数3以下のパーフルオロアルコキシ基、を表す)で表される含フッ素モノマーのモノマー単位(a)、ブロック化された酸性基を有するモノマー単位(b)、含フッ素ノルボルネンのモノマー単位(c)を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

CF2=CX1X2(ただし、X1は水素原子またはフッ素原子、X2は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数3以下のパーフルオロアルキル基または炭素数3以下のパーフルオロアルコキシ基、を表す)で表される含フッ素モノマーのモノマー単位(a)、ブロック化された酸性基を有するモノマー単位(b)、式1に示す含フッ素ノルボルネンのモノマー単位(c)を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。【化1】式1において、XはF、フッ素含有アルキル基またはフッ素含有アルコキシ基を表す。

IPC (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (44)：

2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF09 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002BK001 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07Q ,  4J100AC24P ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AD07Q ,  4J100AE09P ,  4J100AE09Q ,  4J100AE18Q ,  4J100AJ01Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA02R ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38