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J-GLOBAL ID：200903057978862478

希ガスの分離方法

Inventor： 坂本 秀行 ,  山田 研治 ,  中村 和夫
Applicant, Patent owner： 大阪瓦斯株式会社
Agent (1)： 北村 修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998282271
Publication number (International publication number)：2000107549
Application date： Oct. 05, 1998
Publication date： Apr. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 蒸留法を使用することなく、比較的常温に近い環境条件下において、希少な希ガスを分離することができる希ガスの分離方法を得る。【解決手段】 希ガスを含む原料ガスと水とをハイドレート化槽2内に導入するとともに、原料ガス中に含有される希ガスと水とが包接化合物を生成する温度・圧力に、ハイドレート化槽2内を維持して、包接化合物を生成させた後、ハイドレート化槽2内を水の凍結温度以下にして、槽内の水を冷却固化して、包接化合物と氷とからなる固体相をハイドレート化槽2内に形成し、ハイドレート化槽2内を脱気処理した後、槽内を昇温して包接化合物が分解する分解温度状態とし、この分解状態においてハイドレート化槽より放出されてくるガスを回収して、希ガスを分離回収する。

Claim (excerpt)：

希ガスを含む原料ガスと水とを、前記希ガスと水とが包接化合物を生成する温度・圧力下で直接接触させて、前記希ガスを包接化合物として分離することを特徴とする希ガスの分離方法。

IPC (2)：

B01D 53/14 ,  B01D 53/18

FI (2)：

B01D 53/14 C ,  B01D 53/18 A

F-Term (12)：

4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020BC01 ,  4D020BC02 ,  4D020CC10 ,  4D020CC21 ,  4D020DA01 ,  4D020DA03 ,  4D020DB02 ,  4D020DB04 ,  4D020DB06