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J-GLOBAL ID：200903057983620652

保守支援方法及びプログラム

Inventor：
佐々木 恵一

About 佐々木 恵一

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澤田 彰

About 澤田 彰

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小寺 繁仁

About 小寺 繁仁


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (6)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003422394
Publication number (International publication number)：2005182465
Application date： Dec. 19, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：
【課題】 機器のメンテナンスの最適周期を算出でき、運用実績に基づいて経年変化以外の故障をも解析する。【解決手段】 診断エンジン40が、リスク評価DB22及びリスク対策DB21を参照し、機器毎に故障が発生した場合のリスク推定額と、機器毎に予め対策方法を実行する場合のメンテナンス費用とを時系列に沿って算出し、リスク推定額とメンテナンス費用とを時系列に沿って加算して機器のメンテナンスの最適周期を算出する。診断エンジン40が、機器に故障が発生した場合、機器の識別情報及び故障モードに基づいて故障診断DB23を参照し、運用実績に基づいて経年変化以外の故障をも解析する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
機器毎に稼動実績、故障実績及び更新実績を含む運用実績を管理するための設備保全情報に基づいて、データベース作成装置及び診断エンジンにより、当該機器の保守対応を支援するための保守支援方法であって、 前記データベース作成装置が、前記設備保全情報のうち、前記稼動実績に関する少なくとも「機器の部品の単価」、「メンテナンスの人員データ」、「人件費単価データ」、「故障モード毎の設備停止損費」、及び前記故障実績に関する少なくとも「故障モード」、「故障モード毎の故障発生頻度」を機器の識別情報と関連付けてリスク評価データベースを作成する工程と、 前記データベース作成装置が、前記設備保全情報のうち、前記故障実績に関する少なくとも「故障モード」及び前記更新実績に関する少なくとも「故障モード毎の対策方法」を機器の識別情報及び機器の部品の識別情報と関連付けてリスク対策データベースを作成する工程と、 前記データベース作成装置が、前記設備保全情報のうち、前記機器の部品の識別情報及び故障モードに基づいて、機器の部品毎のイベントツリー解析又は故障木解析を実行し、解析結果を得る工程と、 前記データベース作成装置が、この解析結果とこの解析結果における故障モード毎に、前記設備保全情報のうちの少なくとも故障発生頻度、故障兆候現象及び故障原因を機器の識別情報及び機器の部品の識別情報と関連付けて故障診断データベースを作成する工程と、 前記診断エンジンが、前記機器に故障が発生する前に前記リスク評価データベース及び前記リスク対策データベースを参照し、前記故障発生頻度及び前記設備停止損費に基づいて、機器毎に故障が発生した場合のリスク推定額を時系列に沿って算出する工程と、 前記診断エンジンが、前記機器に故障が発生する前に前記リスク評価データベース及び前記リスク対策データベースを参照し、前記故障発生頻度、前記対策方法、前記機器の部品の単価、前記人員データ、及び前記人件費単価データに基づいて、前記機器毎に予め対策方法を実行する場合のメンテナンス費用を時系列に沿って算出する工程と、 前記診断エンジンが、前記リスク推定額と前記メンテナンス費用とを時系列に沿って加算し、得られた加算結果が最小になる時点をメンテナンス周期として出力する工程と、 前記診断エンジンが、前記機器に故障が発生した場合、前記機器の識別情報及び故障モードに基づいて前記故障診断データベースを参照し、得られた故障原因及び/又は故障兆候現象を出力する工程と、 を備えたことを特徴とする保守支援方法。
IPC (3)：
G06F17/60 ,  G05B23/02 ,  G06F19/00
FI (3)：
G06F17/60 138 ,  G05B23/02 T ,  G06F19/00 130
F-Term (2)：
5H223DD09 ,  5H223EE30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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