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J-GLOBAL ID：200903057996663911
荷電粒子ビーム励起ガスレーザー光の散乱光発生装置及びその方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992046454
Publication number (International publication number)：1993251798
Application date： Mar. 04, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：
【要約】【目的】 装置の構造が単純で、誤動作に対する安全性が高く、建設コストが低い、小型、高効率の散乱光発生装置を提供する。【構成】 加速荷電粒子はかガイド磁界発生用コイルの磁界により案内され、真空の相互作用管18中を伝搬し、ベンディング磁界発生用コイル6の磁界によりレーザー管17の中に入射される。荷電粒子は衝突によりレーザーガス媒質を励起し、レーザーを発振させる。レーザー光は出力鏡13を透過し、反射鏡14で折り返され、相互作用管18中の粒子ビームの軌道上に入射され、後続の荷電粒子により散乱され、レーザー光よりも波長の短い散乱光16が後方に放射される。散乱光16は反射鏡14と出力鏡21を通過して、外部に取りだされる。散乱に使用した荷電粒子をガスレーザーの励起に再利用するので、小型化、高効率化が容易である。
Claim (excerpt)：
荷電粒子発生装置と荷電粒子加速装置と、それらに対向配置され、レーザー光を発生させるガスレーザ管と、前記荷電粒子のガイド磁界発生装置と、前記荷電粒子加速装置により加速した荷電粒子を前記レーザー光と衝突させ前記レーザー光を散乱させ散乱光を発生させる相互作用菅と、衝突後の前記荷電粒子を前記ガスレーザー菅に導入する装置を有することを特徴とする荷電粒子ビーム励起ガスレーザー光の散乱光発生装置。
IPC (2)：
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