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J-GLOBAL ID:200903058001658275

有機EL素子の製造方法及び有機EL転写基板とその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 詔男 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999170208
Publication number (International publication number):2000077182
Application date: Jun. 16, 1999
Publication date: Mar. 14, 2000
Summary:
【要約】【課題】 有機EL素子の高精細及び大画面カラー化を可能にする有機EL素子の製造方法を提供する。【解決手段】 耐熱性ベースフィルムの少なくとも一方の面に発光性有機化合物を成膜した有機EL転写基板と、少なくとも透明電極を有する透明基板21とを間隔をあけて配置し、前記有機EL転写基板の前記発光性有機化合物のうち前記透明基板に転写したい領域のみを加熱して、前記発光性有機化合物を前記透明基板21に転写する有機EL素子の製造方法とする。
Claim (excerpt):
低熱伝導部材と高熱伝導部材とから構成された耐熱性ベースフィルムの少なくとも一方の面に、発光性有機化合物を成膜したことを特徴とする有機EL転写基板。
IPC (3):
H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3):
H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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