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J-GLOBAL ID:200903058019316614
随伴ガスを用いたガス吸着方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (6):
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004039838
Publication number (International publication number):2005232031
Application date: Feb. 17, 2004
Publication date: Sep. 02, 2005
Summary:
【課題】 吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガス吸着材を用いて、より効率的なガス吸着を達成する手段を提供する。【解決手段】 少なくとも1のガスに対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガス吸着材に、前記ガス吸着材に対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガスを吸着させる、ガス吸着方法であって、前記ガス吸着材に吸着させるガスに加えて、前記ガスよりも前記ガス吸着材に吸着されやすい随伴ガスを、前記ガス吸着材に供給することを特徴とするガス吸着方法である。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
少なくとも1のガスに対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガス吸着材に、前記ガス吸着材に対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガスを吸着させる、ガス吸着方法であって、
前記ガス吸着材に吸着させるガスに加えて、前記ガスよりも前記ガス吸着材に吸着されやすい随伴ガスを、前記ガス吸着材に供給することを特徴とするガス吸着方法。
IPC (3):
C07C7/12
, B01J20/26
, C07C9/04
FI (3):
C07C7/12
, B01J20/26 A
, C07C9/04
F-Term (18):
4G066AA02A
, 4G066AA32A
, 4G066AB03A
, 4G066AB24A
, 4G066AC11B
, 4G066BA09
, 4G066BA22
, 4G066CA27
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066CA51
, 4G066CA56
, 4G066DA04
, 4G066DA05
, 4G066FA05
, 4G066GA14
, 4H006AA05
, 4H006AD33
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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新規有機金属錯体およびガス吸着材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-283047
Applicant:大阪瓦斯株式会社, 森和亮
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