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J-GLOBAL ID:200903058019316614

随伴ガスを用いたガス吸着方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004039838
Publication number (International publication number):2005232031
Application date: Feb. 17, 2004
Publication date: Sep. 02, 2005
Summary:
【課題】 吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガス吸着材を用いて、より効率的なガス吸着を達成する手段を提供する。【解決手段】 少なくとも1のガスに対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガス吸着材に、前記ガス吸着材に対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガスを吸着させる、ガス吸着方法であって、前記ガス吸着材に吸着させるガスに加えて、前記ガスよりも前記ガス吸着材に吸着されやすい随伴ガスを、前記ガス吸着材に供給することを特徴とするガス吸着方法である。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
少なくとも1のガスに対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガス吸着材に、前記ガス吸着材に対する吸脱着等温線がヒステリシスループを示すガスを吸着させる、ガス吸着方法であって、 前記ガス吸着材に吸着させるガスに加えて、前記ガスよりも前記ガス吸着材に吸着されやすい随伴ガスを、前記ガス吸着材に供給することを特徴とするガス吸着方法。
IPC (3):
C07C7/12 ,  B01J20/26 ,  C07C9/04
FI (3):
C07C7/12 ,  B01J20/26 A ,  C07C9/04
F-Term (18):
4G066AA02A ,  4G066AA32A ,  4G066AB03A ,  4G066AB24A ,  4G066AC11B ,  4G066BA09 ,  4G066BA22 ,  4G066CA27 ,  4G066CA35 ,  4G066CA37 ,  4G066CA51 ,  4G066CA56 ,  4G066DA04 ,  4G066DA05 ,  4G066FA05 ,  4G066GA14 ,  4H006AA05 ,  4H006AD33
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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