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J-GLOBAL ID：200903058032132964

流動層ガス化方法及び設備

Inventor：
松澤 克明

About 松澤 克明

, 
平田 哲也

About 平田 哲也

, 
須田 俊之

About 須田 俊之


Applicant, Patent owner：
株式会社IHI

About 株式会社IHI


Agent (1)： 特許業務法人山田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007207395
Publication number (International publication number)：2009040887
Application date： Aug. 09, 2007
Publication date： Feb. 26, 2009
Summary：
【課題】高いガス化効率で原料をガス化することができ、且つガス化処理すべき温度が異なる原料を1つの流動層ガス化設備でガス化できるようにする。【解決手段】チャーを燃焼させて流動媒体9を加熱する流動層燃焼炉1と、流動層燃焼炉1から導出される燃焼ガス6から流動媒体9を分離する分離器21と、分離器21で分離した流動媒体9を降下管23を介して導入すると共に原料31とガス化剤27を供給して流動層29により原料31をガス化する流動層ガス化炉2と、流動層ガス化炉2で原料31をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉1に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、流動層ガス化炉2を複数のガス化装置22a,22bにより構成し、各ガス化装置22a,22bにおいて生成したガス化ガス32a,32bを別個に取り出すようにする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
チャーを燃焼させて流動媒体を加熱する流動層燃焼炉と、 流動層燃焼炉から導出される燃焼ガスから流動媒体を分離する分離器と、 分離器で分離した流動媒体を降下管を介して導入すると共に原料とガス化剤を供給して流動層により原料をガス化する流動層ガス化炉と、 流動層ガス化炉で原料をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、 流動層ガス化炉を複数のガス化装置により構成し、各ガス化装置において生成したガス化ガスを別個に取り出すようにしたことを特徴とする流動層ガス化方法。
IPC (9)：
C10J 3/00 ,  C10J 3/46 ,  C10J 3/48 ,  C10J 3/54 ,  C10J 3/56 ,  B09B 3/00 ,  C02F 11/10 ,  F23C 10/04 ,  F23C 10/10
FI (11)：
C10J3/00 K ,  C10J3/46 K ,  C10J3/48 ,  C10J3/54 K ,  C10J3/56 ,  B09B3/00 302F ,  B09B3/00 302G ,  C02F11/10 Z ,  B09B3/00 303J ,  F23C10/04 ,  F23C10/10
F-Term (33)：
3K064AA20 ,  3K064AB03 ,  3K064AC06 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AF01 ,  3K064BA07 ,  3K064BA17 ,  3K064BA19 ,  3K064BA22 ,  3K064BB01 ,  4D004AA02 ,  4D004AA12 ,  4D004AC05 ,  4D004BA03 ,  4D004CA27 ,  4D004CA28 ,  4D004CB05 ,  4D004CB34 ,  4D004CC02 ,  4D004CC03 ,  4D004DA02 ,  4D004DA08 ,  4D059AA03 ,  4D059BB01 ,  4D059BB03 ,  4D059BB06 ,  4D059BB13 ,  4D059CA06 ,  4D059CC03 ,  4D059DA47 ,  4D059DA70 ,  4D059EB06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 流動層ガス化システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-201826   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
Cited by examiner (3)

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