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J-GLOBAL ID:200903058033462933

ウェハの洗浄方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井内 龍二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992071013
Publication number (International publication number):1993275411
Application date: Mar. 27, 1992
Publication date: Oct. 22, 1993
Summary:
【要約】【構成】 薬液蒸気を用いて減圧条件化でウェハ11の洗浄を行なうウェハの洗浄方法において、前記薬液蒸気の洗浄室10への導入に先立ち、前記薬液希釈用の溶媒蒸気を導入し、この後前記薬液蒸気を導入して洗浄を行なうウェハの洗浄方法。【効果】 自然酸化膜等の薄い酸化膜の除去に関して高い均一性と高い再現性を得ることができる。
Claim (excerpt):
薬液蒸気を用いて減圧条件下でウェハの洗浄を行なうウェハの洗浄方法において、前記薬液蒸気の洗浄室への導入に先立ち、前記薬液蒸気希釈用の溶媒蒸気を導入することを特徴とするウェハの洗浄方法。

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