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J-GLOBAL ID：200903058066335694

プラズマプロセス反応装置用ガス注入スリットノズル

Inventor： ダン メイダン ,  スティーブ エス.ワイ. マック ,  ドナルド オルガド ,  ジェラルド ゼット. ヤン ,  ティモシー ディー. ドリスコール ,  ブライアン シー ,  ジェイムズ エス. パパニュ
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995236954
Publication number (International publication number)：1996288266
Application date： Sep. 14, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 チャンバハウジングと、プラズマ反応装置真空チャンバへガスを注入するためのガス注入装置を提供する。【解決手段】 本装置は、チャンバハウジングと、処理される基板を保持するするペディストラルと、RFエネルギーをチャンバに供給する手段とを有するものであり、またエッチャント種をガス中に含むガス供給と、チャンバハウジング内の開口部と、チャンバハウジング内の開口部への供給からのガスフィードラインを有するものであり、そして、チャンバハウジング内の開口部近くの、チャンバ内部に面する少なくとも1つのスリットノズルを有するものである。

Claim (excerpt)：

チャンバハウジングを有する反応装置真空チャンバと、プロセスされるワークピース(workpiece) を保持するペディストラルと、前記チャンバ内へRFエネルギーを供給する手段と、ガス中にプロセス種を含むガス供給と、前記チャンバハウジング内の開口部と、前記供給から前記チャンバ内開口部への前記ガスフィードラインと、前記チャンバハウジング内の前記開口部近傍のガス配給装置(gas distribution apparatus)で、前記チャンバの内部に面する少なくとも1つの細長い薄い(o ne elongate thin) スリットノズルを有するものと、を有するプラズマ反応装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (5)：

H01L 21/302 C ,  C23F 4/00 A ,  C23F 4/00 E ,  H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 B