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J-GLOBAL ID：200903058074146329

投影露光装置

Inventor： 谷口 哲夫 ,  水谷 英夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992237162
Publication number (International publication number)：1994084757
Application date： Sep. 04, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 投影光学系の諸収差を計測する。【構成】 開口パターン19aをステージ15側から照明し、照明光IL’はより投影光学系PLを介してレチクルRに到達する。レチクルRで反射された照明光IL’は投影光学系PLと開口パターン19aとを介して光電変換素子26に入射する。光電変換素子26からの信号を合焦系の受光光学系18からの信号とともに収差検出系28に取り込み、光電変換素子26からの信号波形に基づいて投影光学系PLの収差を測定する。

Claim (excerpt)：

光源からの照明光をマスクに照射する照明光学系と、前記マスクのパターンを感光基板上に結像する投影光学系と、前記感光基板を保持するとともに前記投影光学系の光軸方向及び該光軸と垂直な方向に移動可能なステージとを有する投影露光装置において、前記ステージ上に設けられ、所定の開口パターンを有する基準部材と;前記ステージを光軸方向に移動させながら前記開口パターンを前記ステージ側より照明し、前記投影光学系を介して前記マスクに到達し、前記マスクで反射された光を、前記投影光学系と前記開口パターンを介して受光する受光手段と;前記光軸方向に関する前記ステージの位置を計測するステージ位置計測手段と;前記光電検出手段から得られる信号波形より前記投影光学系の収差量を求める収差量演算手段とを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G02B 26/06 ,  G02F 1/01 ,  G03F 7/207 ,  G11B 5/31