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J-GLOBAL ID：200903058096357943

高吸収性材料の層を有する吸収構造体の製造方法

Inventor： ヴィトルンド, ウルバン
Applicant, Patent owner： エスシーエー メールンリユーケ アーベー
Agent (1)： 安達 光雄 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995528878
Publication number (International publication number)：1998500325
Application date： Apr. 10, 1995
Publication date： Jan. 13, 1998
Summary：

【要約】衛生ナプキン、失禁ガード、おむつなどの吸収物品に用いるのを目的とする吸収構造体の製造方法であって;特に高吸収性材料の層を、解繊し湿潤させたセルロースパルプまたはティッシュの二つの層の間に入れ、得られた複合構造体を1対以上の加熱ロールの間でカレンダー処理を行うことによって吸収構造体を製造し、高吸収性材料の層がそれ自体結合して安定な層を形成し、その安定な層は周囲のセルロースパルプ層またはティッシュ層に結合する製造方法。その吸収構造体は優れた吸収特性を示し非常に薄く製造することができる。この構造体は、高吸収性材料を、製造過程で製造機械のまわりにまきちらすことなく、または完成された吸収物品を包装時、輸送時または使用時に該物品から洩らすことなく製造することができる。

Claim (excerpt)：

おむつ、衛生ナプキン、パンティガード、失禁ガードなどの物品のような吸収物品中の吸収構造体の製造方法であって;乾燥状態の重量に対し計算して少なくとも10%湿潤させた解繊セルロースパルプまたは乾燥状態の重量に対し計算して少なくとも20%湿潤させたティッシュ製の上部吸収層(1)とボトム吸収層(2)の間に特に高吸収性材料を含有する中間層(10)を配置し、次いで、得られた複合構造体(8)を1対以上の加熱ロール(6,7)の間で圧縮することによって吸収構造体を製造し、加熱ロール(6,7)のすぐ近くの水分は加熱ロールの熱によって蒸発して、高吸収性材料中にさらに深く位置している高吸収性材料の比較的低温の中間層(10)内で凝縮し、この中間層(10)がそれ自体結合して安定な層を形成しかつ周囲のセルロースパルプ層(1,2)またはティッシュ層(1,2)にも結合することを特徴とする製造方法。

IPC (4)：

A61F 13/15 ,  A61F 13/48 ,  D04H 13/00 ,  D06M 17/00

FI (5)：

A61F 13/18 307 F ,  D04H 13/00 ,  A61F 13/18 307 E ,  A41B 13/02 C ,  D06M 17/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-005545
  
• 特開昭59-135149
  
• 特開昭63-288258