塩基および界面活性剤を含むマイクロリソグラフィ用フォトレジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：谷義一 , 阿部和夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002546917
Publication number (International publication number)：2004536328
Application date： Nov. 26, 2001
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：

(A)(a)少なくとも1種類のエチレン系不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含み、前記少なくとも1種類のエチレン系不飽和化合物が多環式であることを特徴とするフッ素含有コポリマー、(b)保護された酸基を含み、線状主鎖セグメントに沿って化学結合した1つ以上の分枝セグメントを含む分枝ポリマー、(c)構造:-C(Rf)(Rf’)OH(式中、RfおよびRf’は、1〜約10個の炭素原子を有する同種または異種のフルオロアルキル基であるか、あるいは一緒になって(CF2)n(式中nは2〜約10である)である)を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマー、(d)ペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)またはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3であり、Y=-Hである)の非晶質ビニルホモポリマー、あるいはペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)とCX2=CY2との非晶質ビニルコポリマー、および(e)置換または無置換ビニルエーテルから調製されるニトリル/フルオロアルコール含有ポリマー、からなる群より選択されるポリマーと、(B)少なくとも1種類の光活性成分と、(C)塩基および界面活性剤からなる群より選択される機能性化合物と、を含むフォトレジスト組成物。このポリマーは、波長約157nmにおける吸光係数が約5.0μm-1未満となりうる。これらのフォトレジスト組成物は、改良された画像形成特性を有する。

Claim (excerpt)：

(A)(a)少なくとも1種類のエチレン系不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含み、前記少なくとも1種類のエチレン系不飽和化合物が多環式であることを特徴とするフッ素含有コポリマー、 (b)保護された酸基を含み、線状主鎖セグメントに沿って化学結合した1つ以上の分枝セグメントを含む分枝ポリマー、 (c)構造: -C(Rf)(Rf’)OH (式中、RfおよびRf’は、1〜約10個の炭素原子を有する同種または異種のフルオロアルキル基であるか、あるいは一緒になって(CF2)n(式中nは2〜約10である)である)を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマー、 (d)ペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)またはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3であり、Y=-Hである)の非晶質ビニルホモポリマー、あるいはペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)とCX2=CY2との非晶質ビニルコポリマー、および (e)置換または無置換ビニルエーテルから調製されるニトリル/フルオロアルコール含有ポリマー、からなる群より選択されるポリマーと、 (B)少なくとも1種類の光活性成分と、 (C)塩基および界面活性剤からなる群より選択される機能性化合物と、を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/004 504 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R

F-Term (17)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025CC04 , 2H025CC17 , 2H025CC20

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