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J-GLOBAL ID：200903058118910668
エキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
武田 正彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992210622
Publication number (International publication number)：1994016449
Application date： Jun. 29, 1992
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 エキシマレーザー光を使用するリソグラフィ装置のステッパーレンズ及びその他光学部材に好適に使用することができるエキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材を提供する。【構成】 10乃至100ppmのOH基の含有率、200ppm以下の塩素の含有率、1×1016分子数/cm3以下の水素分子含有率、Δnで、5×10-6以下の屈折率の均質性及び5nm/cm以下の複屈折を有するエキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材は、揮発性けい素化合物を、酸水素炎により火炎加水分解し、生成する微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させて多孔質シリカ母材を製造し、該多孔質シリカ母材を高温脱水及び脱ガスを行い、次いで、均質化処理し次いでこの得られた該高均質石英ガラスを成形し、成形された高均質石英ガラスをアニール処理することにより製造できる。
Claim (excerpt)：
合成石英ガラス製のエキシマレーザー用光学部材において、10乃至100ppmのOH基の含有率、200ppm以下の塩素の含有率、1×1016分子数/cm3以下の水素分子含有率、Δnで5×10-6以下の屈折率分布の均質性及び5nm/cm以下の複屈折を有することを特徴とする合成石英ガラス製のエキシマレーザー用光学部材。
Patent cited by the Patent：
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