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J-GLOBAL ID:200903058160351261

マクロ格子テストパターンプロファイルデータ取得システムおよび方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002018532
Publication number (International publication number):2002334913
Application date: Jan. 28, 2002
Publication date: Nov. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、製造ラインにおいてリアルタイムで使用するために実行されることが可能なテストパターンの正確なプロファイルキャラクタリゼーションのための方法およびシステムを提案する。【解決手段】 一実施形態が、光学計測装置を使用して測定されたスペクトルデータとプロファイルライブラリとを使用することによって、テストパターン線のプロファイルデータを取得するための非破壊的な方法である。プロファイルデータは、プロファイルライブラリを生成するために1組のパラメータに含まれるすべてのテストパターン線の重要な寸法からなる。テストパターン線は、光学近接効果、マイクロローディング効果、または、他のプロセス効果を補正するための方法の有効性を評価するように設計されることが可能である。
Claim (excerpt):
マクロ格子テストパターンにおけるテストパターン プロファイルデータ取得方法であって、ウェーハ内に1組のテストパターンを形成する手段と、光学計測装置を使用して前記1組のテストパターンからスペクトルデータを得る手段と、マクロ格子プロファイルライブラリ内の最もよく合致する算出されたスペクトルデータに関連付けられた前記プロファイルデータにアクセスする手段とからなる方法。
IPC (4):
H01L 21/66 ,  G01N 21/27 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (5):
H01L 21/66 Z ,  G01N 21/27 Z ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 516 C
F-Term (19):
2G059AA05 ,  2G059AA10 ,  2G059BB16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE11 ,  2G059EE12 ,  2G059FF01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059MM10 ,  2H095BB01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DJ38 ,  5F046DB08 ,  5F046DB10 ,  5F046DB11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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