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J-GLOBAL ID:200903058188454155

半導体レーザ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西野 卓嗣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992041204
Publication number (International publication number):1993243667
Application date: Feb. 27, 1992
Publication date: Sep. 21, 1993
Summary:
【要約】【目的】 電流阻止効果の優れた電流阻止層をもつGaAlAs系半導体レーザ装置を提供することを目的とする。【構成】 ダブルヘテロ構造部100上に複数のGa<SB>1-x</SB>Al<SB>x</SB>As層(0.2<x<0.8、層厚:0.1μm以下)9bを含む電流阻止層7を形成する。この電流阻止層7は凹部6が形成されており、該凹部6内に電流注入層10が形成される。
Claim (excerpt):
GaAs基板上に、GaAlAs系の第1、第2クラッド層が活性層を挟持するダブルヘテロ構造部を備え、該第2クラッド層上に電流通路部をもつ電流阻止層を有する半導体レーザ装置において、該電流阻止層が複数のGa<SB>1-x</SB>Al<SB>x</SB>As層(0.2<x<0.8)を含むことを特徴とする半導体レーザ装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭62-260380
  • 特開昭59-200483
  • 特開平1-309391
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