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J-GLOBAL ID:200903058225303510

半導体レーザ素子および半導体受光素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992041878
Publication number (International publication number):1993218591
Application date: Jan. 31, 1992
Publication date: Aug. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 低発振しきい値電流密度を有する1.5μm帯のInGaAs/InAlAs系量子井戸半導体レーザ素子と、高感度でSN比が大きい1.5μm帯の半導体受光素子を提供する。【構成】 InP基板11上に、InAlAs障壁層とInGaAs量子井戸層からなる活性層14を形成した半導体レーザ素子において、InP基板11の面方位は(111)B面、または(111)B面が(100)方向または(110)方向に高々10°傾いた面方位とし、InP基板上に、キャリア増倍層、InGaAs光吸収層を順次形成した半導体受光素子において、InP基板の面方位は(111)B面、または(111)B面が(100)方向または(110)方向に高々10°傾いた面方位とする。
Claim (excerpt):
InP基板上に、InAlAs障壁層とInGaAs量子井戸層からなる活性層を形成した半導体レーザ素子において、InP基板の面方位は(111)B面、または(111)B面が(100)方向または(110)方向に高々10°傾いた面方位であることを特徴とする半導体レーザ素子。
IPC (3):
H01S 3/18 ,  H01L 21/203 ,  H01L 31/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-339962   Applicant:ジヤパンゴアテツクス株式会社

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