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J-GLOBAL ID:200903058293436049

光学用成形品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992152532
Publication number (International publication number):1993341104
Application date: Jun. 12, 1992
Publication date: Dec. 24, 1993
Summary:
【要約】【目的】本発明では、耐摩耗性被膜を有し、かつ、耐候性のよい光学用成形品を提供することを目的とする。【構成】光学用基材上に1〜300ナノメートルの微粒子状無機物を含む耐磨耗性被覆を形成し、その上に1.470以下の屈折率を有する酸化ケイ素薄膜を形成した。
Claim (excerpt):
光学用基材と、前記光学用基材の上に形成された1〜300ナノメートルの微粒子状無機物を含む耐磨耗性被覆と、前記耐摩耗性被覆上に形成された1.470以下の屈折率を有する酸化ケイ素薄膜とからなることを特徴とする光学用成形品。
IPC (2):
G02B 1/10 ,  G02B 1/04

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