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J-GLOBAL ID：200903058295794295

レーザ加工光学装置

Inventor： 佐藤 秀己 ,  寺林 隆夫 ,  田中 秀明 ,  雨宮 恭子
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993153277
Publication number (International publication number)：1995009181
Application date： Jun. 24, 1993
Publication date： Jan. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】マスク転写方式のレーザ加工装置において、レーザ光の偏光を利用することによりマスクからの反射光を再びマスクに照射し、レーザ光の利用効率を向上させること。【構成】レーザ発振器とマスクの間の光軸上に偏光分離素子と波長板を設け、レーザ光の偏光を分離してマスクに照射し、マスクからの反射光の偏光面を波長板により90°回転させることによりマスクからの反射光を再びマスク面に照射する光学系。【効果】レーザ光を用いた有機物等の加工法において、レーザ光の利用効率が高く、ひいては加工能率が向上する。

Claim (excerpt)：

加工すべきパターンを形成したマスクと、この加工パターンを試料に転写するための投影光学系からなるレーザ加工装置において、レーザ光源とマスクの間の光軸上にレーザ光の偏光を分離する光学素子と波長板とを設けたことを特徴とするレーザ加工光学装置。

IPC (2)：

B23K 26/06 ,  G02B 27/28