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J-GLOBAL ID:200903058305972251
グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
樺山 亨 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996088092
Publication number (International publication number):1997146259
Application date: Apr. 10, 1996
Publication date: Jun. 06, 1997
Summary:
【要約】【課題】所望の露光強度分布を容易且つ確実に実現できるグラデーションマスクを実現する。【解決手段】透明基板1上に、金属および/または金属化合物の均一厚層2を、その透過率が10%以下となるように形成し、形成された金属および/または金属化合物の均一厚層2上に、所望形状のパターンを持つエッチング用のマスクをパターニングし、層2をドライまたはウエットエッチングする。マスク4のパターン形状を順次換えて、パターニングとエッチングを所望の回数繰返し、層厚:Z(X,Y)が、所望の透過率分布に対応して、3段階以上段階的に変化した金属および/または金属酸化膜の層2を形成する。
Claim (excerpt):
透明基板上に金属および/または金属化合物の層が、平面座標:X,Yで表される所望の2次元領域において層厚:Z(X,Y)が、所望の透過率分布に対応して3段階以上段階的に変化するように形成されていることを特徴とするグラデーションマスク。
IPC (6):
G03F 1/08
, H01L 21/027
, G02B 3/02
, G02B 5/00
, G03F 7/105 501
, G03F 7/26 511
FI (6):
G03F 1/08 D
, G02B 3/02
, G02B 5/00 Z
, G03F 7/105 501
, G03F 7/26 511
, H01L 21/30 502 P
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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階調マスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-195962
Applicant:大日本印刷株式会社
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特開昭63-018351
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光学デバイス及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-161407
Applicant:三井石油化学工業株式会社
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固体撮像素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-177942
Applicant:株式会社東芝
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光学部品の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-014744
Applicant:株式会社日立製作所
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光マスク及びその製造方法並びに露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-092100
Applicant:日東電工株式会社
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