Pat
J-GLOBAL ID:200903058333140199

Co/Ni人工格子膜、磁気抵抗素子、磁気ヘッド、磁気記録媒体およびCo/Ni人工格子膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中尾 俊輔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991075377
Publication number (International publication number):1993315135
Application date: Apr. 08, 1991
Publication date: Nov. 26, 1993
Summary:
【要約】[目的] 種々の磁気的特性に優れた薄膜状のCo/Ni人工格子膜、このCo/Ni人工格子膜を利用した磁気抵抗効果の優れた磁気抵抗素子および磁気ヘッドや磁気記録媒体ならびに前記Co/Ni人工格子膜の製造方法を提供する。[構成] Co/Ni人工格子膜はCo層とNi層とが交互に積層されている薄膜層部分を有することを特徴としており、磁気抵抗素子、磁気ヘッドおよび磁気記録媒体はそれぞれ前記Co/Ni人工格子膜を構成要素とし、Co/Ni人工格子膜の製造方法はイオン・ビームスパッタ法を利用してCo/Ni人工格子膜を製造することを特徴とする。
Claim (excerpt):
Co層とNi層とが交互に積層されている薄膜層部分を有することを特徴とするCo/Ni人工格子膜。
IPC (4):
H01F 10/16 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/85
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭57-130003
  • 特開昭57-114874

Return to Previous Page