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J-GLOBAL ID：200903058360416589
露光装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
中村 稔 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991079677
Publication number (International publication number)：1994069098
Application date： Apr. 12, 1991
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：
【要約】【目的】 レーザ光源部と照明部との間に大きな相対変位がある場合にも、光量損失を招くことなく、投影レンズの入射瞳上でも均一な光強度分布を得ることにより、解像力の向上とより深い焦点深度を得ることができる露光装置を提供することである。【構成】 一定の径のビームを射出する光源部と、該光源部からのビームが入射する露光光学系とを備え、該露光光学系が、前記光源部からのビームを入射して第1の二次光源像を形成する第1のオプティカルインテグレータと、該第1の二次光源像からの光を入射して第2の二次光源像を形成する第2のオプティカルインテグレータとを備えた露光装置において、前記第1のオプティカルインテグレータの有効入射径を、前記光源部が射出するビームの径よりも大きく構成したものである。
Claim (excerpt)：
一定の径のビームを射出する光源部と、該光源部からのビームが入射する露光光学系とを備え、該露光光学系が、前記光源部からのビームを入射して第1の二次光源像を形成する第1のオプティカルインテグレータと、該第1の二次光源像からの光を入射して第2の二次光源像を形成する第2のオプティカルインテグレータとを備えた露光装置において、前記第1のオプティカルインテグレータの有効入射径を、前記光源部が射出するビームの径よりも大きく構成したことを特徴とする露光装置。
IPC (5)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/54
, G03F 7/20 505
, G03F 7/20 521
Cited by examiner (10)
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