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J-GLOBAL ID:200903058374315599
シリコンナノパーティクルのパターニング方法及びこの方法に用いる有機分子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平山 一幸 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001159710
Publication number (International publication number):2002353436
Application date: May. 28, 2001
Publication date: Dec. 06, 2002
Summary:
【要約】【課題】 シリコンナノパーティクルをサブマイクロメーターの精度でパターニングする方法及び自己組織化単分子膜の表面にSiナノパーティクルを選択吸着させる方法、並びにこの方法に用いる有機分子を提供する。【解決手段】 マイクロコンタクトプリンティング法によって、基板5上に、サブマイクロメーターの精度でパターニングされた自己組織化膜6を形成し、シリコンナノパーティクル7を基板5上に供給し、サブマイクロメーターの精度で、シリコンナノパーティクル層をパターニングする。
Claim (excerpt):
マイクロコンタクトプリンティング法により、パターニングされた自己組織化膜を基板上に形成し、この基板上にシリコンナノパーティクルを供給し、上記自己組織化膜がシリコンナノパーティクルを吸着しないことを利用してパターニングすることを特徴とする、シリコンナノパーティクルのパターニング方法。
IPC (2):
H01L 29/06 601
, H01L 33/00
FI (2):
H01L 29/06 601 N
, H01L 33/00 A
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
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