Pat

J-GLOBAL ID：200903058374965372

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998234339
Publication number (International publication number)：2000066400
Application date： Aug. 20, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高解像力を有し、耐ドライエッチング性を改良した、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の特定の構造単位を少なくとも有する共重合体Aと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)、(II)及び(III) で表される構造単位を有する共重合体Aと、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I)〜(III) 中、R1 及びR2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。Xは2価の有機基を表す。一般式(II)中、R'1、R'2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、R'3は、総炭素数11〜20の置換基を有してもよい鎖状アルキル基、総炭素数11〜20の置換基を有してもよい環状アルキル基、総炭素数11〜30の置換基を有してもよいアリール基、又は総炭素数12〜30の置換基を有してもよいアラルキル基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (11)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03