Pat

J-GLOBAL ID：200903058388840220

有機物含有水の処理方法および装置

Inventor： 歳国 正美 ,  高橋 伸行 ,  加藤 正秀 ,  後藤 康宏 ,  高野 哲也 ,  山崎 裕司
Applicant, Patent owner： 日揮株式会社 ,  東北電力株式会社
Agent (1)： 木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000023929
Publication number (International publication number)：2000317445
Application date： Feb. 01, 2000
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】有機物含有水を最小のエネルギーで効率よく処理できると共に、処理後の処理水に溶解する不要な炭酸ガス量を最小に抑えることができる有機物含有水の処理方法および装置を提供する。【解決手段】処理水を貯留タンク11に充填された有機物を含有する処理水を紫外線装置15に通水することにより該処理水に紫外線を照射して該処理水が含有する有機物を酢酸、蟻酸等の中間生成有機酸に分解し、該紫外線装置15による紫外線照射後の処理水の中間生成有機酸の濃度が最大値若しくは最大値の80%以上に達した時点で、自動弁17を閉、自動弁18を開に切り換えることで紫外線照射後の処理水を樹脂塔19に通水し、ここで上記中間生成有機酸および硫酸イオン、アンモニウムイオン、硝酸イオン等の無機イオンを除去する。

Claim (excerpt)：

有機物を含有する処理水に紫外線を照射して処理する有機物含有水の処理方法において、前記処理水に対する紫外線照射処理条件を前記紫外線照射により前記処理水中の有機物が生成する中間生成有機酸濃度変化に基づき設定することを特徴とする有機物含有水の処理方法。

IPC (3)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/58

FI (5)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/58 Q ,  C02F 1/58 P

F-Term (34)：

4D025AA04 ,  4D025AA07 ,  4D025AB09 ,  4D025AB11 ,  4D025AB14 ,  4D025AB35 ,  4D025BA02 ,  4D025BA13 ,  4D025BB01 ,  4D025CA03 ,  4D025CA04 ,  4D025CA05 ,  4D025CA06 ,  4D025CA10 ,  4D025DA04 ,  4D037AA03 ,  4D037AA08 ,  4D037AB01 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037AB13 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA15 ,  4D038AA05 ,  4D038AB07 ,  4D038AB29 ,  4D038AB31 ,  4D038AB36 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB08