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J-GLOBAL ID：200903058420311056

放電プラズマ処理装置

Inventor： 岩根 和良
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001273742
Publication number (International publication number)：2003080060
Application date： Sep. 10, 2001
Publication date： Mar. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】 リモート型放電プラズマ処理装置において、電極間に導入するガスの偏流を和らげて、大面積基材等の処理にも対応できる放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 対向電極間に処理ガスを導入し、電界を印加してグロー放電プラズマを発生するようになされた放電プラズマ処理装置において、対向電極間への処理ガスの導入が、回転羽根による整流機構により電極間に均一に導入することができるようになされていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

対向電極間に処理ガスを導入し、電界を印加してグロー放電プラズマを発生するようになされた放電プラズマ処理装置において、対向電極間への処理ガスの導入が、回転羽根による整流機構により電極間に均一に導入することができるようになされていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (4)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/24

FI (4)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/24

F-Term (34)：

4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BD03 ,  4G075CA14 ,  4G075CA16 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075ED02 ,  4G075ED06 ,  4G075ED08 ,  4G075FC15 ,  4K030EA03 ,  4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030JA11 ,  4K030JA13 ,  4K030JA14 ,  4K030KA12 ,  4K030KA14 ,  4K030KA15 ,  4K030KA47 ,  5F045AA08 ,  5F045AC01 ,  5F045AC07 ,  5F045AE25 ,  5F045BB01 ,  5F045EE20 ,  5F045EF13 ,  5F045EH08 ,  5F045EH13 ,  5F045EH18 ,  5F045EH19