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J-GLOBAL ID：200903058430110474

処理装置及びその使用方法

Inventor： 佐伯 弘明 ,  坂本 高雄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993354476
Publication number (International publication number)：1995201951
Application date： Dec. 29, 1993
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 カセット室内外にダミー用カセットを設けることによりダミーラン時におけるオペレータに対する煩雑さをなくすことができる処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wを処理する処理室4A〜4Cと、通常カセットC1を収容するカセット室を有する処理装置において、上記カセット室内の昇降手段22上に通常カセットとダミー被処理体DWを収容するダミー用カセットC2を設ける。そして、電源投入後やクリーニング処理後のダミーラン時に上記ダミー用カセット内のダミー被処理体を使用し、オペレータの煩雑さをなくす。

Claim (excerpt)：

被処理体を処理する処理室と、複数の被処理体を収容可能な通常カセットを昇降手段上に載置可能に収容するカセット室とを有する処理装置において、前記カセット室内の前記昇降手段上に前記通常カセットとダミー被処理体を収容するダミー用カセットとを設けるように構成したことを特徴とする処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  B65G 1/00 537 ,  B65G 1/06 511

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-054843
  
• 特開昭59-113638
  
• ドライクリーニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-028576   Applicant：富士電機株式会社