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J-GLOBAL ID：200903058448956532

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992295112
Publication number (International publication number)：1994148878
Application date： Nov. 04, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、プロファイル及び焦点深度等の諸性能のバランスに優れ、且つスカムのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 一般式(I)【化1】(式中、R1 〜R3 は-OH基のオルソ位に少なくとも1つの水素原子が存在するという条件付きで、各々水素、ハロゲン、-OCOR4 、アルキル又はアルコキシを表わし、R4 はアルキル又はフェニルを表わす。Xは2価の連結基である。)で示される基を少なくとも2個有し、且つ-OH基の総数が3個以上であるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(I)【化1】(式中、R1 〜R3 は-OH基のオルソ位に少なくとも1つの水素原子が存在するという条件付きで、各々水素もしくはハロゲン原子、-OCOR4 或いは置換されていてもよいアルキルもしくはアルコキシ基を表わし、R4 は置換されていてもよいアルキルもしくはフェニル基を表わす。Xは2価の連結基を表わす。)で示される基を少なくとも2個有し、且つ-OH基の総数が3個以上であるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027