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J-GLOBAL ID：200903058468218198
イオン源のビーム引出し方法及びその装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大島 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992124188
Publication number (International publication number)：1993299046
Application date： Apr. 17, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：
【要約】【目的】 真空アーク放電により金属イオンを発生するイオン源のビーム引出しの最適化を図る。【構成】 真空包囲体1の中に互いに絶縁して設けられたアノード2とカソード3との間で、トリガ電極6との間で発生する放電をきっかけにアーク放電を発生し、カソードの一部を蒸発かつイオン化してなる金属プラズマを放電領域からプラズマ室へ導き、グリッド開口部15からイオンビームを引き出す。サプレッサグリッド13の電流に対するエクストラクタグリッド12の電流の比が元素毎に定まる敷居値K以下で、最大のエクストラクタ電流を示すアーク電流を積分回路19及び演算回路20により求めるよう制御してイオン注入を行う。【効果】 安定なイオン注入が可能となりオペレータによる注入条件のばらつきや注入中のアーク電流の微調整が不要となるほか、注入効率を上げて処理時間の短縮を図ることができる。
Claim (excerpt)：
真空包囲体の中でアノードとカソードとの間でアーク放電を発生させて該カソードの一部を蒸発かつイオン化して金属プラズマを形成し、該金属プラズマを放電領域からプラズマ室へ導きイオンビームを引き出すイオン源のビーム引出し方法に於いて、元素毎に定まる敷居値K(サプレッサ電流/エクストラクタ電流)以下でかつ最大のエクストラクタ電流となるようにアーク電流を制御してイオン注入を行うことを特徴とするイオン源のビーム引出し方法。
IPC (2)：
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