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J-GLOBAL ID:200903058474052749

分散性に優れたシリカ担持物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小倉 亘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993088499
Publication number (International publication number):1994298518
Application date: Apr. 15, 1993
Publication date: Oct. 25, 1994
Summary:
【要約】【目的】 両親媒性物質が形成する分子組織体及びイオン交換性能を利用し、分子レベルで被担持物が高度に分散したシリカ担持物を得る。【構成】 分子の両末端に極性基及び疎水性基がそれぞれ付加された両親媒性物質とシリカ形成物質とを含む混合分散液から溶媒を蒸発除去することによりシリカ複合体を調製し、シリカ複合体をイオン性の被担持物又は被担持物前駆体を含む溶液に接触させ、被担持物又は被担持物前駆体をシリカ複合体に担持させる。シリカ複合体をイオン性の被担持物又は被担持物前駆体を含む溶液に接触させた後、両親媒性物質の共存下に化学的処理又は熱的処理を施しても良い。両親媒性物質としては、二分子膜形成能をもつものが好ましい。【効果】 被担持物が高度の分散状態で安定的に担持されるため、高性能の触媒担体,微粒子分散媒体,分散固定化担体等として広範な分野で使用される。
Claim (excerpt):
分子の両末端に極性基及び疎水性基がそれぞれ付加された両親媒性物質とシリカ形成物質とを含む混合分散液から溶媒を蒸発除去することによりシリカ複合体を調製し、該シリカ複合体をイオン性の被担持物又は被担持物前駆体を含む溶液に接触させ、前記被担持物又は被担持物前駆体を前記シリカ複合体に担持させることを特徴とするシリカ担持物の製造方法。
IPC (3):
C01B 33/12 ,  A61K 47/04 ,  B01J 37/02 101
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-210227

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