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J-GLOBAL ID：200903058485364165

描画装置

Inventor：
奥山 隆志

About 奥山 隆志


Applicant, Patent owner：
旭光学工業株式会社

About 旭光学工業株式会社


Agent (1)： 松浦 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998298393
Publication number (International publication number)：2000122303
Application date： Oct. 20, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 複数の面付パターンの全体を被描画体に対して描画する際にその被描画体の局所的な変形に応じて個々の面付パターンのそれぞれをその被描画体上の個々の面付位置決めマークにできるだけ適正に位置決めし得るように構成された描画装置を提供する。【解決手段】 被描画体Sの面付位置決め穴Hmn(n=1〜6、m=1〜4)の実際の位置情報を検出する。面付位置決め穴Hmn(n=1〜6、m=1〜4)の実際の位置情報に可及的に整合するように、複数の面付パターンAの個々の基準位置情報が補正される。これにより被描画体の局所的な変形に応じて個々の面付パターンのそれぞれが可及的に適正に位置決めされる。
Claim (excerpt)：
光ビームを主走査方向に走査させつつ被描画体を副走査方向に移動させるとともに、光ビームを描画データに基づいて変調させることにより前記被描画体に対して複数の面付パターンの描画を行なう描画装置であって、前記複数の面付パターンの個々を描画すべき基準の描画位置に対応して前記被描画体に付された面付位置決めマークの実際の位置情報に基づいて、前記複数の面付パターンの個々の描画位置をそれに対応した実際の面付位置決めマークに可及的に整合するように、前記複数の面付パターンそれぞれの描画位置の位置情報を補正する位置情報補正手段と、前記位置情報補正手段により補正された前記複数の面付パターンそれぞれの描画位置の位置情報に基づいて、前記複数の面付パターンを前記被描画体に描画するための全体パターンの描画データを作成する描画データ作成手段とを備えることを特徴とする描画装置。
IPC (4)：
G03F 7/20 511 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 9/00 ,  H05K 3/00
FI (4)：
G03F 7/20 511 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 9/00 G ,  H05K 3/00 H
F-Term (5)：
2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097LA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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