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J-GLOBAL ID：200903058487656155

所定の導電性パターンが施された製品及びその製造方法

Inventor： 上山 健一
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 宇高 克己
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994044386
Publication number (International publication number)：1995252440
Application date： Mar. 15, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 吸着力が強く、所望の導電性パターンが簡単に得られる技術を提供することを目的とする。【構成】 基体に対してカチオン性基(又はアニオン性基)を有する剤Aが結合されてなり、アニオン性基(又はカチオン性基)と導電性基とを分子中に有する剤Bが前記剤Aのカチオン性基(又はアニオン性基)によって選択的に固定されてなる所定の導電性パターンが施された製品。

Claim (excerpt)：

基体に対してカチオン性基(又はアニオン性基)を有する剤Aが結合されてなり、アニオン性基(又はカチオン性基)と導電性基とを分子中に有する剤Bが前記剤Aのカチオン性基(又はアニオン性基)によって選択的に固定されてなることを特徴とする所定の導電性パターンが施された製品。

IPC (4)：

C09D 5/24 PQW ,  G02F 1/1345 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/3205