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J-GLOBAL ID：200903058500273198

投影露光装置

Inventor： 徳田 幸夫 ,  高林 幸夫
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994268418
Publication number (International publication number)：1996111371
Application date： Oct. 06, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 投影レンズを支持する鋳造フレームの露出面を縮小する。【構成】 ウエハW1 を支持するウエハステージ1の上方には、鋳造フレーム5によって、投影レンズ2とレチクルステージ3と光源光学系4が支持される。鋳造フレーム5の頂部5aは内部に補強用のリブ54を内蔵する中空構造であり、これによって頂部5aの剛性が大幅に強化される。リブ54が内蔵されており、従ってウエハステージ1に対する露出面が小さいため、鋳造フレーム5の付着物によってウエハW1 が汚染されるトラブルも少ない。

Claim (excerpt)：

支持体によって支持された投影光学系と、該投影光学系を経て露光される基板を保持する基板ステージを有し、前記支持体の少なくとも前記基板ステージに面した所定の部分が、補強用のリブを内蔵する中空構造であることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 513