位相シフトマスク、位相シフトマスク用ブランクスおよび位相シフトマスクの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：深見久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996120052
Publication number (International publication number)：1997304912
Application date： May. 15, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】遮光膜を挟んで隣り合う光透過領域の透過光の位相差が実質上180°であり、かつ各透過光の強度が同一である位相シフトマスク、位相シフトマスク用ブランクスおよび位相シフトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】透明基板1上に第1の光透過領域Taを覆い、かつ第2の光透過領域Tnを露出するようにシリコン窒化膜3とシリコン酸化膜5とが積層して形成されている。第1および第2の光透過領域Ta、Tnに挟まれる遮光領域Sには透明基板1上を覆うように遮光膜7が形成されている。

Claim (excerpt)：

露光光を透過する第1の光透過領域と、前記第1の光透過領域と遮光領域を挟んで隣り合いかつ前記第1の光透過領域を透過する露光光の位相と異なった位相で露光光を透過する第2の光透過領域とを有する位相シフトマスクであって、主表面を有する透明基板と、前記第1の光透過領域において前記透明基板の主表面上を覆いかつ前記第2の光透過領域において前記透明基板の主表面を露出するように形成されたシリコン窒化膜と、前記第1の光透過領域において前記透明基板の主表面上を覆うように前記シリコン窒化膜と積層され、かつ前記第2の光透過領域において前記透明基板の主表面を露出するように形成されたシリコン酸化膜と、前記遮光領域において前記透明基板の主表面上を覆う遮光膜とを備えた、位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光学マスクブランクと光学マスクおよびそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-305595 Applicant：凸版印刷株式会社
光学マスクとマスクブランクおよびそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-241011 Applicant：凸版印刷株式会社
位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-239005 Applicant：凸版印刷株式会社

Show all

Return to Previous Page