純水製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997300784
Publication number (International publication number)：1999128923
Application date： Oct. 31, 1997
Publication date： May. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】半導体製造などの電子産業分野、医薬用水関連分野などで用いられる、ホウ素濃度を大幅に低減し、比抵抗を高めた純水又は超純水の製造に適した純水製造装置を提供する。【解決手段】ホウ素含有水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整するアルカリ添加装置とpHの調整されたホウ素含有水が通水される複数の耐アルカリ性逆浸透膜とを有し、複数の耐アルカリ性逆浸透膜は、前段の膜の透過水が後段の膜の供給水となるよう多段に設けられてなることを特徴とする純水製造装置。

Claim (excerpt)：

ホウ素含有水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整するアルカリ添加装置と、pHの調整されたホウ素含有水が通水される複数の耐アルカリ性逆浸透膜とを有し、複数の耐アルカリ性逆浸透膜は、前段の膜の透過水が後段の膜の供給水となるよう多段に設けられてなることを特徴とする純水製造装置。

IPC (2)：

C02F 1/44 , C02F 1/58

FI (2)：

C02F 1/44 J , C02F 1/58 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

超純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-005616 Applicant：オルガノ株式会社
海水の淡水化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-186247 Applicant：日東電工株式会社
逆浸透膜分離装置および高濃度溶液の分離方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-314245 Applicant：東レ株式会社

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