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J-GLOBAL ID：200903058574749208

ホトプレートの製造方法

Inventor： ▲高▼橋 伯夫
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994020434
Publication number (International publication number)：1995230162
Application date： Feb. 17, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ホトプレートの製造方法に関し、発塵の少ない製造方法の実用化を目的とする。【構成】 石英基板1の上に金属遮光膜を形成した後、この石英基板1の周辺領域でパターン形成を行なわない領域に剥離が可能な突起2を設け、レジストをスピンコートして突起2の存在により金属遮光膜が局所的に露出しているレジスト膜3を作り、露出している金属遮光膜をアースに接続した後、レジスト膜3に電子ビームを照射してパターンの描画を行なうことを特徴としてホトマスクを形成する。

Claim (excerpt)：

石英基板(1)上に膜形成して得た金属遮光膜の上にレジストを被覆し、該レジストに電子ビームを走査してパターンを描画して後、現像してレジストパターンを作り、露出している金属遮光膜をエッチングして得るホトプレートの製造方法において、前記石英基板(1)上に金属遮光膜を形成した後、該石英基板(1)の周辺領域でパターン形成を行なわない領域に剥離が可能な突起(2)を設け、レジストをスピンコートして前記突起(2)の存在により金属遮光膜が局所的に露出しているレジスト膜(3)を作り、露出している金属遮光膜をアースに接続した後、前記レジスト膜(3)に電子ビームを走査してパターンの描画を行なうことを特徴とするホトプレートの製造方法。

IPC (3)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/30 541 Z