Pat
J-GLOBAL ID：200903058595154719

複合材およびそれを用いたパターン形成体

Inventor：
小林 弘典

About 小林 弘典

, 
山本 学

About 山本 学


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999281521
Publication number (International publication number)：2001109103
Application date： Oct. 01, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：
【要約】【課題】 パターン形成体を形成するに当たり、エネルギー照射後の現像・洗浄等の後工程が特に必要なく、かつ高精細なパターンを形成することが可能な複合材およびこの複合材を用いて形成されるパターン形成体を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基材と、この基材の少なくとも一方の表面に形成され、少なくともフッ素および光触媒を含む光触媒含有層とからなる複合材であって、上記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用により上記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されていることを特徴とする複合材を提供することにより上記課題を解決する。
Claim (excerpt)：
基材と、この基材の少なくとも一方の表面に形成され、少なくともフッ素および光触媒を含む光触媒含有層とからなる複合材であって、前記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触媒含有層が形成されていることを特徴とする複合材。
IPC (5)：
G03C 1/73 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101 ,  G02B 5/20 101 ,  B01J 35/02
FI (5)：
G03C 1/73 ,  B32B 9/00 A ,  B32B 27/00 101 ,  G02B 5/20 101 ,  B01J 35/02 J
F-Term (56)：
2H048BA28 ,  2H048BA29 ,  2H048BA47 ,  2H123AE00 ,  2H123AE11 ,  2H123BA00 ,  2H123BA01 ,  2H123BB00 ,  2H123BB02 ,  4F100AA17B ,  4F100AA21B ,  4F100AA23B ,  4F100AA25B ,  4F100AA28B ,  4F100AA34B ,  4F100AG00 ,  4F100AH05B ,  4F100AK52B ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CA23B ,  4F100EH462 ,  4F100GB90 ,  4F100JL08B ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BD15A ,  4G069BD15B ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069BE34A ,  4G069BE34B ,  4G069EA07 ,  4G069EB15Y ,  4G069EB18Y ,  4G069ED01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FC08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM