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J-GLOBAL ID:200903058597622396

荷電ビーム照射方法および装置、ならびにコンピュータが読取り可能な記憶媒体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 波多野 久 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000250224
Publication number (International publication number):2002058750
Application date: Aug. 21, 2000
Publication date: Feb. 26, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】照射対象に照射される荷電ビームの線量値を高精度で制御することを可能にしてビーム照射効率を向上させる。【解決手段】各照射位置に対応する電流値に基づいて荷電ビームを異なる2方向に沿って走査することにより、その荷電ビームを各照射位置に照射する偏向電磁石コイル3、4、偏向電磁石電源X5、Y6と、電流値を複数の照射位置に対応付けてテーブルTに記憶するメモリ13と、線量計7、信号処理回路9、信号入力部11と、計測線量値が計画線量値に到達した際に、他の照射位置に対応する電流値をメモリ13のテーブルTから読み出して偏向電磁石電源X5、Y6に供給するプロセッサ12および信号出力部14とを備えている。
Claim (excerpt):
荷電ビームを照射面の複数の照射位置に対して照射する荷電ビーム照射装置であって、前記各照射位置に対応する電流値に基づいて前記荷電ビームを異なる2方向に沿って走査することにより、その荷電ビームを前記各照射位置に照射する走査手段と、前記照射面の複数の照射位置それぞれに対して予め計画された計画線量値および前記複数の照射位置に対応する電流値を当該複数の照射位置に対応付けて記憶する記憶手段と、前記各照射位置に照射される荷電ビームの線量値を計測する計測手段と、この計測手段により計測された各照射位置に照射される荷電ビームの線量値と前記記憶手段に記憶された各照射位置に対応する計画線量値とを各照射位置毎に比較し、前記計測線量値が計画線量値に到達した際に、他の照射位置に対応する電流値を前記記憶手段から読み出して前記走査手段に対して供給する供給制御手段とを備えたことを特徴とする荷電ビーム照射装置。
IPC (6):
A61N 5/10 ,  G21K 1/04 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/30
FI (7):
A61N 5/10 F ,  G21K 1/04 R ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/00 R ,  G21K 5/04 C ,  H01J 37/04 A ,  H01J 37/30 A
F-Term (8):
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  5C030AA01 ,  5C034AA02 ,  5C034AB03

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