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J-GLOBAL ID:200903058610590784

自己組織化単分子膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 今村 正純 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999337255
Publication number (International publication number):2001152363
Application date: Nov. 29, 1999
Publication date: Jun. 05, 2001
Summary:
【要約】【課題】 列状分子空げきや金表面原子層の脱落に伴うピットなどの欠陥の少ない自己組織化単分子膜を製造する方法を提供する。【解決手段】 アルコール類などの有機溶媒中に置換又は無置換の直鎖アルカンチオールを含む溶液に金などの金属基板を浸漬して該アルカンチオールからなる自己組織化単分子膜を該金属基板表面に形成する方法において、該溶媒の温度を50°C以上として膜形成を行うことを特徴とする方法。
Claim (excerpt):
有機溶媒中に置換又は無置換の直鎖アルカンチオールを含む溶液に金属基板を浸漬して該アルカンチオールからなる自己組織化単分子膜を該金属基板表面に形成する方法において、該溶媒の温度を50°C以上として膜形成を行うことを特徴とする方法。
IPC (2):
C23C 26/00 ,  C07C321/04
FI (2):
C23C 26/00 Z ,  C07C321/04
F-Term (12):
4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AB91 ,  4H006TA04 ,  4K044AA06 ,  4K044AB05 ,  4K044BA19 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BC00 ,  4K044BC02 ,  4K044CA53

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