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J-GLOBAL ID：200903058615641719

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 岩井 武 ,  羽田 英夫 ,  藤村 悟史
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000360110
Publication number (International publication number)：2002162745
Application date： Nov. 27, 2000
Publication date： Jun. 07, 2002
Summary：

【要約】【課題】 高解像度で優れた耐ドライエッチング性及び基板との密着性を有し、しかもラインエッジラフネスが改善された良好な形状のレジストパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分、(B)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分及び(C)有機溶剤を含むポジ型レジスト組成物において、(A)成分として、主鎖を構成する溶解抑制基をもつアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル単位の少なくとも一部が、アクリル酸又はメタクリル酸とラクトン環含有橋かけ型飽和多環式アルコールとのエステルから誘導される構成単位及びアクリル酸又はメタクリル酸とヒドロキシル基、アルコキシル基又はアシル基で置換された直鎖状アルコールとのエステルから誘導される構成単位により置換されたポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルを用いた化学増幅型ポジ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分、(B)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分及び(C)有機溶剤を含むポジ型レジスト組成物において、(A)成分として、主鎖を構成する溶解抑制基をもつアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル単位の少なくとも一部が、アクリル酸又はメタクリル酸とラクトン環含有橋かけ型飽和多環式アルコールとのエステルから誘導される構成単位及びアクリル酸又はメタクリル酸とヒドロキシル基、アルコキシル基又はアシル基で置換された直鎖状アルコールとのエステルから誘導される構成単位により置換されたポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルを用いたことを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/26 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/17 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/26 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/17 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002EV246 ,  4J002EW046 ,  4J002GP03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38